應用領域：
電子束蒸發可以蒸發高熔點(diǎn)材料，比一般電阻加熱蒸發熱效率高、束流密度大、蒸發速度快 ，制成的薄膜純(chún)度高、質量好，厚 度可以較準確(què)地控制，可以廣泛應用於(yú)制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。
基本配置：
◆真空腔室：500mm×650mm 不鏽鋼 D 形腔體。前門鉸鏈方便真空室清理；腔室底闆，頂(dǐng)部和側(cè)面裝有腔室内硬件接口； 前門上配直徑 80 玻璃觀察窗（含手動(dòng)防污染擋(dǎng)闆、可拆洗防污玻璃）；腔體水冷。
◆抽氣系統 ：採(cǎi)用複(fù)合分子泵 + 直聯(lián)旋片泵作爲真空抽氣(qì)系統； 主抽泵：分子泵抽速≥ 1200L/S，氮氣壓縮比≥ 109 ； 前級泵：VRD-30 雙極旋片泵及電(diàn)磁閥(fá)，抽速：8L/S 主抽閥：CCQ-200 超高真空氣動插闆閥
* 真空系統可以升級(jí)爲進口分子泵和渦旋幹(gàn)泵 。
◆真空測量： 數顯複合真空計： “兩低一高”全量程數顯複合真空計；
* 真空測(cè)量可以升級爲進口全量程冷陰極(jí)真空計
◆極限真空：<5×10-5Pa ◆恢複真空：<6.7×10-4Pa(< 45 min)
◆電(diàn)子束蒸發源：電(diàn)子槍採(cǎi)用磁流體密封，安裝在腔室底部靠中心位置。 高壓電壓 ：DC-3KV ～ -10KV（可設） 最大電流 ：0-1000mA（此時的加速電壓是 -10kV） 最大加速功率 ：10KW；電子束偏轉角：270°（永磁鐵）
◆坩埚 ：配直徑 160mm 6 穴直冷坩埚一套，電動轉位和點(diǎn)動轉位，定位精準。單(dān)穴容量≥ 20cc
◆薄膜鍍層控制儀： Inficon SQC-310 在線測(cè)量膜厚，可以實時測(cè)量蒸發的速度和厚度，帶(dài)有 PID 控制功能， 可通過膜厚儀自動(dòng)控制蒸鍍(dù)速率。
◆樣(yàng)品台 ：可容納(nà)樣(yàng)品最大尺寸，6 英寸樣品托一個 , 配擋闆，轉速 0-30rpm 連續可調 ; 採(cǎi)用基片台背闆直接水冷形式；基片採(cǎi)用無氧銅(tóng)，水冷不控溫。
◆控制單元：15 英寸觸摸屏 +PLC 控制
選擇配置：
◆樣品可加熱控溫，( 可選帶掩膜庫系統樣品台 ) 溫度範圍：室溫 -600℃，控溫精度 ±0.5℃；
◆電子槍可選用進口知名品牌
◆離子束輔助沉積源
◆全量程真空計 (Inficon)
系統要求标準配置：
◆工藝氣體 :25psi，純度 99.99% 以上
◆工作氣體 : 幹燥壓縮空氣、氮氣
◆電 源 : 三相 380V, 50Hz, 63A
◆冷 凍 水 :18-25℃ , 6L/min，壓力 <0.4MPa
