DH-GCVD 系統兼容真空及常壓兩種主流的生長模式，可採用計算機自動控制，工作在常壓氣氛或真空條件，通過控制
，可以在 10 -3 Torr—760Torr 之間的任意氣壓下進行石墨烯的生長。既可以生長出六邊形的石墨烯單晶
，也可以生長出花瓣狀的石墨烯單晶
。整個石墨烯生長過程的重要參數由計算機進行精確(què)控制，包括溫度、氣體流量等。控制軟件内置多種生長優化參數，用戶僅将襯底放入樣品腔，即可開始生長。将爲科研人員提供大量的研究機會，以及爲實現各種科學想法創造瞭(le)條件。

主要用途和适用範圍

系統主要爲高等院校，科研院所等單位的實驗室提供專業的石墨烯生長(zhǎng)設備(bèi)。是一套完備(bèi)的石墨烯制備(bèi)系統，包括硬件和軟件部分。

技術參數